成都超邁光電科技有限公司為您提供成都超邁供應(yīng)research熱蒸發(fā)磁控濺射多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī)離子刻蝕機(jī)功能可定制。

●主要功能：多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī),，可滿足合金膜,、單層膜、多層膜、導(dǎo)電膜,、非導(dǎo)電膜和反應(yīng)濺射的需要,，具有-的實(shí)用性和通用性三靶、垂直與共濺射合一,、在線清洗基片等,，能夠提供高水平功能薄膜研制，-適合于半導(dǎo)體,、新能源,、磁性材料、儲(chǔ)氫材料,、二維材料,、超硬薄膜、固體潤滑薄膜,、自潔凈薄膜,、等領(lǐng)域研究，同時(shí)可選配等離子刻蝕功能和輔助鍍膜,。

1. 主體和腔室：全封閉框架結(jié)構(gòu),，機(jī)柜和主機(jī)為一體式結(jié)構(gòu)，骨架默認(rèn)為白色,，門板為白色,，四只腳輪，可固定,，可移動(dòng),。真空腔室采用-0cr18ni9不銹鋼材質(zhì)sus304，腔體尺寸不小于為： 450x500mm,；真空室為前開門方式,，采用鉸鏈連接，自動(dòng)鎖緊,，并配有門-開關(guān),，-杜絕誤操作；真空腔室設(shè)置dn100觀察窗口,，位置在真空腔體正前方,。
2. 真空系統(tǒng)：
2.1-真空度≤pa空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)狻?/dv>
2.2 真空配置,。 前級(jí)泵為機(jī)械真空泵,，抽速優(yōu)于8l/s，分子泵一臺(tái),，抽速1200l/s,。
2.3 真空測量：采用進(jìn)口全量程真空計(jì),，優(yōu)選德國萊寶與瑞士inficon。
3. 工件盤系統(tǒng)：配備工件盤一套,，可安裝4英寸基片1片,，選配高溫工件盤＜800℃。
4. 磁控濺射系統(tǒng)：配置三只2-4英寸濺射陰極,，三只靶均能兼容直流和射頻濺射,，并可單獨(dú)自由切換，磁控靶安裝與真空室底部,，向上濺射成膜,。
5.充氣系統(tǒng)：二路分別配置mfc流量控制器，均為0-100sccm,，準(zhǔn)確度±1%f.s,，線性±0.5%f.s,重復(fù)精度±0.2%f.s。
5. 其他：配置斷水保護(hù),，配置冷水機(jī)組,，冷水機(jī)制冷量為5000kcal,；設(shè)備配備小型靜音空壓機(jī),；保修期1年，維修響應(yīng)時(shí)間不超過24小時(shí),。
6. 操作系統(tǒng)及安全監(jiān)控：采用人機(jī)界面+西門子plc實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備集中自動(dòng)控制,；所有控制系統(tǒng)和電氣安裝均與主機(jī)集成在一起，避免控制柜與主機(jī)之間線路放在地上或從頂部引入帶來的問題,，模塊化設(shè)計(jì)能-社保維護(hù)維修的便捷性,。

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