上海炎境設(shè)備工程有限公司為您提供山西運(yùn)城市石灰窯爐sncr脫硝噴槍定制,。上海炎境設(shè)備工程有限公司注---污染治理，針對(duì)工業(yè)鍋爐,、工業(yè)窯爐煙氣的---排放開發(fā)了一系列設(shè)備：sncr---排放脫硝設(shè)備,、爐內(nèi)組合---排放脫硝設(shè)備、低溫濕法脫硝設(shè)備,、sds干法脫硫設(shè)備,、煙氣脫白設(shè)備等。
是一家從事氮氧化合物污染治理即“脫硝”的環(huán)境工程公司,，擁有豐富的脫硝實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)和---的脫硝技術(shù)設(shè)備,。無(wú)論是工業(yè)鍋爐脫硝還是工業(yè)窯爐脫硝均可以達(dá)到---排放要求。
爐內(nèi)干法---脫硝是用高壓風(fēng)機(jī)將---干粉脫硝劑噴入爐內(nèi)750-850℃的溫度區(qū)間內(nèi),，與煙氣充分混合反應(yīng),，將氮氧化合物還原成無(wú)害的氮?dú)狻?煙氣再循環(huán)低氮改造可以---的降低干粉脫硝劑的使用，降低脫硝運(yùn)行費(fèi)用,。 本項(xiàng)目中所使用的---干粉脫硝劑不含粘性或易
潮解物質(zhì)和粉煤灰,，不會(huì)增加煙塵顆粒物數(shù)據(jù)。不會(huì)形成潮解板結(jié)堵塞現(xiàn)象,。上海炎境設(shè)備工程有限公司
---干法脫硝設(shè)備包括上料機(jī),、料倉(cāng)、下料裝置,、計(jì)量輸送裝置,、高壓風(fēng)機(jī)、噴射器裝置,、噴射分配器,、噴頭,、輸送管道、變頻控制柜等組成,。
我公司---開發(fā)了六種不同的---排放脫硝工藝：sncr高壓微米噴霧脫硝+---脫硝劑工藝,；sncr干法脫硝工藝；sncr高壓微米噴霧脫硝+scr微型模塊工藝,；煙道低溫還原脫硝工藝,；---溫濕法還原脫硝工藝；---脫硝劑干法吸附脫硝工藝,，可以根據(jù)實(shí)際工程經(jīng)驗(yàn),，針對(duì)
各種不同鍋爐、窯爐的類型,，針對(duì)不同的工況條件如燃料,、煙氣量、溫度,、污染物初始濃度等因素因地制宜,，采取靈活的脫硝方案，使客戶在穩(wěn)定運(yùn)營(yíng),、達(dá)標(biāo)排放的同時(shí),，獲得較低的設(shè)備投入和較低的運(yùn)行費(fèi)用。
公司自創(chuàng)立以來(lái),，堅(jiān)持以設(shè)計(jì)和研發(fā)為基礎(chǔ),，以自主---和-為---，以優(yōu)良的項(xiàng)目管理能力為依托,，成為節(jié)能領(lǐng)域系統(tǒng)解決方案的提供商,。如需購(gòu)買產(chǎn)品，歡迎---本公司,。高分子脫硝固態(tài)高分子材料還原脫硝是一種新型脫硝工藝,，廣泛適用于水上海炎境設(shè)備工程有限公司
泥廠、熱電聯(lián)產(chǎn)鍋爐,、鍋爐以及大部分窯爐的煙氣脫硝治理,，設(shè)備簡(jiǎn)單，而且還原劑為固態(tài)顆粒物,，便于運(yùn)輸和存儲(chǔ),，對(duì)于鍋爐建設(shè)時(shí)沒有考慮煙氣脫硝處理的,，或是現(xiàn)場(chǎng)空間狹小的,，---適用。固態(tài)高分子材料還原脫硝法的關(guān)鍵是選擇鍋爐溫度窗口合適的進(jìn)料位置,，
然后把高分子材料噴射進(jìn)去,，使高分子材料與煙氣充分接觸,、反應(yīng)，將煙氣中的no還原為n2和h2o,，從而達(dá)到脫硝的目的,。脫硝劑由提升機(jī)或人工輸送至料倉(cāng)。上海炎境設(shè)備工程有限公司
50%---溶液和稀釋水在計(jì)量混合模塊進(jìn)行混合,。用來(lái)測(cè)量和控制正常運(yùn)行時(shí)需要的---溶液量的組件被裝配在計(jì)量混合柜中,。這些模塊配有控制閥和流量變送器等，用來(lái)自動(dòng)控制到噴的---溶液總流量,。nox控制器所需的------溶液量來(lái)自---溶液管道,。水量由流量
儀檢測(cè)，氣動(dòng)調(diào)節(jié)閥控制,�,？刂葡到y(tǒng)所需軟水與---溶液混合前由流速儀監(jiān)測(cè)，氣動(dòng)調(diào)節(jié)閥控制,。所有混合水量被平均分配到每個(gè)噴嘴,，水流由流速儀控制以---合理分配�,；旌线�原劑壓力由壓力計(jì)控制,。在氮氧化物，氨濃度和溫度信號(hào)發(fā)送到plc,，plc將控制調(diào)整上海炎境設(shè)備工程有限公司
還原劑噴射截面,。當(dāng)負(fù)荷及nox濃度的變化，plc控制---稀釋模塊到一定的濃度如有---,，并實(shí)時(shí)調(diào)整還原劑噴射量以---系統(tǒng)經(jīng)濟(jì)有效的運(yùn)作,。
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