真空電鍍主要包括:
真空蒸鍍,、濺射鍍和離子鍍幾種類型,。它們都是采用在真空條件下,通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,,同時(shí)具有速度快附著力好的---優(yōu)點(diǎn),
應(yīng)用舉例: pc料耐溫130度,,深圳電鍍件絲印,,只有“真空電鍍+uv油光固”才可達(dá)到耐130度高溫要求,。而一般的水電鍍是無法對(duì)pc料進(jìn)行電鍍對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜要求---的場合,則要求壓力---( 10-5pa ),。 鍍層厚度0.04-0.1um太薄,,反射率低;太厚,附著力差,,易脫落,。厚度0.04時(shí)反射率為90%電鍍件絲印
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