藥性減低的原因及還原方式
隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,,蝕刻液藥性降低,大功率絲印機(jī)設(shè)備,,是因?yàn)?--化鐵氧化成了氯化亞鐵,,此時(shí)需要將氯化亞鐵還原成---化鐵增加藥液酸性。需加入水溶液(還原劑)﹑---()
2.還原反應(yīng):2fecl2+naclo+2hcl﹦2fecl3+nacl+h2o
氯化亞鐵++---=---化鐵+---+水(由于亞鐵離子在水中極易水解而產(chǎn)生氫氧化亞鐵:fecl2+h2o=,,fe(oh)2+hcl所以為了防止氯化亞鐵水解變質(zhì),,常在氯化亞鐵溶液中添加一些---.)
3.由于---容易揮發(fā),隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,,金屬絲印機(jī)設(shè)備,,還會(huì)發(fā)生以下反應(yīng):
6fecl2+naclo+3h2o=4fecl3+2fe(oh)3 ↓+nacl
氯化亞鐵++水=---化鐵+氫氧化鐵(沉淀物)+---
(其中氫氧化鐵為沉淀物,,所以隨著化學(xué)反應(yīng)時(shí)間的加長(zhǎng),,藥箱內(nèi)會(huì)出現(xiàn)粘稠狀物質(zhì),。除去該粘稠狀沉淀物,,湛江絲印機(jī)設(shè)備,,需采用物理過濾方式,,如:過濾網(wǎng)過濾或凈水裝置)
蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類,。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液,,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的,化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),。蝕刻過程中應(yīng)注意的問題,,每一個(gè)都---重要。 1.減少側(cè)蝕和突沿,,提高蝕刻系數(shù)側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長(zhǎng),,側(cè)蝕越---。側(cè)蝕---影響印制導(dǎo)線的精度,,---側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能,。 2.提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)的板子蝕刻中,,蝕刻速率越一致,,越能獲得均勻蝕刻的板子,。要達(dá)到這一要求,,必須---蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在的蝕刻狀態(tài),。這就要求選擇容易再生和補(bǔ)償,,蝕刻速率容易控制的蝕刻液,。選用能提供恒定的操作條件和對(duì)各種溶液參數(shù)能自動(dòng)控制的工藝和設(shè)備,。通過控制溶銅量,ph值,,溶液的濃度,鈦金絲印機(jī)設(shè)備,,溫度,,溶液流量的均勻性(噴淋系統(tǒng)或噴嘴以及噴嘴的擺動(dòng))等來實(shí)現(xiàn),。 3.高整個(gè)板子表面蝕刻速率的均勻性板子上下兩面以及板面上各個(gè)部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的,。蝕刻過程中,,上下板面的蝕刻速率往往不一致。一般來說,,下板面的蝕刻速率高于上板面。因?yàn)樯习迕嬗腥芤旱亩逊e,,減弱了蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行,。
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