微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,，主要-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,，-重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,，從事電子信息,、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā),。

光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

光刻層間對準(zhǔn),，即套刻精度overlay,，-圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對準(zhǔn)。-中較重要的兩個(gè)參數(shù)是：-能量energy和焦距focus,。如果能量和焦距調(diào)整不好,，就不能得到要求的分辨率和大小的圖形,。表現(xiàn)為圖形的關(guān)鍵尺寸超出要求的范圍,。-方法：

a、接觸式-contactprinting,。掩膜板直接與光刻膠層接觸,。-出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡單,。缺點(diǎn)：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損,，壽命很低只能使用5～25次,；1970前使用，分辨率〉0.5μm,。

b,、接近式-proximityprinting。

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微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,，主要-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,，-重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,，從事電子信息,、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

光刻機(jī)又被稱為：掩模對準(zhǔn)-機(jī)、-系統(tǒng),、光刻系統(tǒng)等,。

每顆芯片誕生之初，電子束光刻芯片廠商,，都要經(jīng)過光刻機(jī)的雕刻,，精度要達(dá)到頭發(fā)絲的千分之一，如今,，全能夠生產(chǎn)光刻機(jī)的只有四個(gè),，中國成為了其中的一員，實(shí)現(xiàn)了從無到有的突破,。光刻機(jī)又被稱為：掩模對準(zhǔn)-機(jī),、-系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等,。常用的光刻機(jī)是掩模對準(zhǔn)光刻,，所以它被稱為掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。它指的是通過將硅晶片表面上的膠整平,，然后將掩模上的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠,，將器件或電路結(jié)構(gòu)暫時(shí)“復(fù)i制”到硅晶片上的過程。它不是簡單的激光器,，但它的-系統(tǒng)基本上使用的是復(fù)雜的紫外光源,。光刻機(jī)是芯片制造的中心設(shè)備之一，根據(jù)用途可分為幾類：光刻機(jī)生產(chǎn)芯片,；有光刻機(jī)包裝,；還有一款投影光刻機(jī)用在led制造領(lǐng)域。

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