一,、電路板圖的描繪
描繪是指將設(shè)計(jì)好的電路板圖復(fù)印到敷銅板上,,并用耐腐蝕材料將線路覆蓋。
1.復(fù)印
按需要大小裁切一塊單面敷銅板,,將上圖所示電路板圖用復(fù)寫紙復(fù)印到敷銅板的銅箔面,,如下圖所示。
2.覆蓋
覆蓋的目的是將需要的銅箔部分(即線路)掩蓋住,,以便在腐蝕后保留下來,。覆蓋可以采用任何便于操作的耐腐蝕材料,一例如油漆、樹脂膠,、滌綸膠帶,、耐腐蝕油彩等。
(1)油漆覆蓋法,。用小毛筆蘸少許油漆,,沿敷銅板銅箔面上復(fù)印出的線路細(xì)心涂覆,如上圖所示,。涂覆過程中應(yīng)保持線路平直,,該覆蓋的部分應(yīng)全部嚴(yán)密覆蓋。涂覆中萬一發(fā)生溢出,,可在油漆干透以后用美工刀修去。
按硅片直徑劃分:
硅片直徑主要有3英寸,、4英寸,、6英寸、8英寸,、12英寸300mm,,目前已發(fā)展到18英寸450mm等規(guī)格。直徑越大,,在一個(gè)硅片上經(jīng)一次工藝循環(huán)可制作的集成電路芯片數(shù)就越多,,每個(gè)芯片的成本也就越低。因此,,直徑硅片是硅片制各技術(shù)的發(fā)展方向,。但硅片尺寸越大,對微電子工藝設(shè)各,、材料和技術(shù)的要求也就越高,。
按單晶生長方法劃分:
直拉法制各的單晶硅,,稱為cz硅片;磁控直拉法制各的單晶硅,,稱為mcz硅片;懸浮區(qū)熔法制各的單晶硅,稱為fz硅片;用外延法在單晶硅或其他單晶襯底上生長硅外延層,,稱為外延硅片,。
生產(chǎn)藍(lán)寶石晶體主要消耗的原料為5n高純氧化體,塊體 ,。目前國內(nèi)生產(chǎn)高純氧化鋁的主流技術(shù)有三種:多重結(jié)晶法,、醇鹽水解法、直接水解法,。1,, 多重結(jié)晶法具體又分為硫酸鋁銨熱解法和碳酸鋁銨熱解法。目前國內(nèi)山東,上海,,貴州等地的廠家,,多數(shù)采取這種方法。它的缺點(diǎn)就是金屬鐵,、鎳,、鈦、鋯等離子以及鹵素元素難以去除,,純度可以達(dá)到4n,,基本已經(jīng)---了,實(shí)際是3個(gè)9,;從純度上說,,它的缺陷挺大,一般只能用在焰熔法寶石上,,要直接拿來做大尺寸藍(lán)寶石晶體原料就很難,。無法滿足要求。
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