學(xué)清洗槽也叫酸槽/化學(xué)槽,，主要有hf，硅片腐蝕機(jī),，h2so4,，h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置,，目的是為了去除雜質(zhì),，去離子，去原子,，后還有di清洗,。ipa是，就是工業(yè)酒精,，是用來(lái)clean機(jī)臺(tái)或parts的,，是為了減少partical的。

蝕刻氣體將氣體與襯底分離并從襯底中提取氣體,�,？展堋Ｔ谙嗤瑮l件下,，硅片腐蝕,，氧等離子體處理比氮等離子體處理更有效。安等離子蝕刻技術(shù),，如果需要蝕刻,，如果需要去除蝕刻后的污漬,、浮渣、表面處理,、等離子聚合,、等離子灰化或其他蝕刻應(yīng)用。附著力,、焊接,、印刷、涂裝,、涂裝后道工序的附著力和良率�,，F(xiàn)已成為材料表面性能處理的表面改性工具。