陽極氧化工藝:
影響氧化膜的因素主要有:-濃度:通常采用15%~20%,。濃度升高,,膜的溶解速度加大,膜的生長速度降低,,膜的孔隙率高,,吸附力強(qiáng),富有彈性,,染色性好易于染深色,,但硬度,耐磨性略差,;而降低-濃度,,則氧化膜生長速度加快,膜的孔隙少,,硬度高,,耐磨性好。所以,用于防護(hù),,裝飾及純裝飾加工時(shí),,多使用允許濃度的上限,即20%濃度的-做電解液,。
陽極氧化工藝:
影響氧化膜的因素有:
電解液溫度:電解液溫度對氧化膜影響很大,。溫度升高,膜的溶解速度加大,,膜厚降低,。當(dāng)溫度為22~30℃時(shí),所得到的膜是柔軟的,,吸附能力好,,但耐磨性相當(dāng)差;當(dāng)溫度大于30℃時(shí),,膜就變得疏松且不均勻,有時(shí)甚至不連續(xù),,且硬度低,,因而失去使用價(jià)值;當(dāng)溫度在10~20℃之間時(shí),,所生成的氧化膜多孔,,吸附能力強(qiáng),并富有彈性,,適宜染色,,鋁氧化生產(chǎn)廠家,但膜的硬度低,,耐磨性差,;當(dāng)溫度低于10℃,鋁氧化廠家,,氧化膜的厚度增大,,硬度高,耐磨性好,,但孔隙率較低,。因此,生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度,。要制取厚而硬的氧化膜時(shí),,必須降低操作溫度,在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度,,通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化,。
影響陽極氧化氧化膜的因素主要有:
氧化時(shí)間:氧化時(shí)間的選擇,取決于電解液濃度,鋁氧化加工,,溫度,,陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,,麗水鋁氧化,,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長速度與氧化時(shí)間成正比,;但當(dāng)膜生長到一定厚度時(shí),,由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,,而且由于溫升,,膜的溶解速度增大,所以膜的生長速度會(huì)逐漸降低,,到后面不再增加,。
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