在氧化層中大部分的電荷效應是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關(guān)的,。在800—1250~c的溫度范圍內(nèi)，用干氧,、濕氧或水汽進行的熱氧化過程有三個持續(xù)的階段,，首先是環(huán)境氣氛中的氧進入到已生成的氧化層中，然后氧通過二氧化硅向內(nèi)部擴散,，當它到達si02-si界面時就同硅發(fā)生反應,，常州鋁壓鑄鈍化，形成新的二氧化硅,。這樣不斷發(fā)生著氧的進入—擴散—反應過程,，使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅，氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長,。

鈍化原理其鈍化的機理可用薄膜理論來解釋,，即認為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用，鋁壓鑄鈍化哪里好,，作用時在金屬表面生成 一種非常薄的,、致密的、覆蓋性能-的,、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜,。這層膜成獨立相存在，通常是氧化金屬的化合物,。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用,，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達到防腐蝕的作用,。