高真空離子鍍適用范圍比較廣，如abs料,、abs+pc料,、pc料的商品,。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大,、設(shè)備成本高,、對作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來產(chǎn)品外觀損壞大,，產(chǎn)品穩(wěn)定性差,。而高真空離子鍍它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法,，并吸收電子束,、分子束、離子束,、等離子束,、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，高溫真空鍍膜,，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,。簡單地說,，真空鍍膜，在真空中把金屬,、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,，使其在被涂覆的物體稱基板、基片或基體上凝固并沉積的方法,，也就是我們俗稱的真空鍍膜,。
真空鍍對面涂層的要求：
與鍍膜層要有-的接觸性能;
與底涂層要有一定的相溶性;
成膜性能與施涂-良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;
防潮、抗溶劑,、耐腐蝕性能好,。抗老化性能強(qiáng),。
由于產(chǎn)品的特殊需要,，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。
2.常用涂料
真空鍍常用涂料有紫外光固化涂料,、酰酯涂料,、醇酸樹脂涂料、環(huán)氧樹脂涂料,、聚氨酯涂料等,。
鍍膜制造需要部分耗材1.sio2顆粒或環(huán)狀(***300****230*t7.5mm,，)需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用,。2.tio2顆粒。3.晶振片filtex 6mhz或inficon6mhz,。4.監(jiān)控片bk7 φ142*80*1.8mm,，需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用。5.銅坩堝,，需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用,。6.鋁箔厚度0.05mm*寬610mm。7.電子槍燈絲,，需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用,。8.離子源，需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用耗材,。
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