金屬蝕刻網(wǎng)片的熔煉過(guò)程：

1一：這個(gè)階段主要是起弧,。電爐通電后,，電極發(fā)射熱電子，從陰極發(fā)出大量電子,，高速電子可使中性的空氣分子離解成離子,，從而空氣具有導(dǎo)電能力，產(chǎn)生電弧,，釋放出大量的光和熱,。

2二：這個(gè)階段主要是電極穿井和極下?tīng)t料的熔化。通電起弧后,，電極下的爐料受熱熔化,。隨著熔化的進(jìn)行，經(jīng)過(guò)15-25分鐘的時(shí)間,，電極降到低位置,。在此階段，電弧始終被爐料包圍,，電弧所放出的熱量絕大部分用于加熱和熔化爐料,，對(duì)爐蓋的熱輻射很少，應(yīng)該向爐內(nèi)輸送大功率,。

3三：這一階段主要是電極四周爐料的熔化和電極的回升,。隨著熔化的進(jìn)行，液面不斷上升,，電極也就相應(yīng)地上升。在回升過(guò)程中,，周?chē)�的爐料逐漸熔化,，當(dāng)爐內(nèi)只有爐坡和爐底還剩部分未熔爐料，即全部爐料熔化80%左右,，這一階段結(jié)束,。在這個(gè)階段，電弧在大部分時(shí)間中仍被冷料包圍,，應(yīng)仍向爐內(nèi)輸送大功率,。

4四：這個(gè)階段主要是低溫爐區(qū)爐料的熔化。電弧是點(diǎn)熱源,，爐膛內(nèi)的溫度分布不均勻,，爐門(mén)附近，出鋼口兩側(cè)等處的爐料熔化較慢,。應(yīng)及時(shí)將這些地方的冷料推入熔池,。在此階段液面仍緩慢上升,，鋼水溫度已經(jīng)升高，電弧開(kāi)始暴露在液面上,，輻射加強(qiáng),，應(yīng)該適當(dāng)降低輸入功率和電壓。

第二和第三階段是熔化過(guò)程的主要階段,，占全部時(shí)間的70-80%,，是決定熔化期時(shí)間長(zhǎng)短的主要因素。

興之揚(yáng)蝕刻電視304不銹鋼網(wǎng)小編來(lái)給大家講解什么是干法蝕刻：

電漿干法蝕刻主要應(yīng)用于集成電路制程中線路圖案的定義,，通常需搭配光阻的使用及微影技術(shù),，其中包括了1)氮化硅(nitride)蝕刻：應(yīng)用于定義主動(dòng)區(qū)；2)復(fù)晶硅化物/復(fù)晶硅(polycide/poly)蝕刻：應(yīng)用于定義閘極寬度/長(zhǎng)度,；3)復(fù)晶硅(poly)蝕刻：應(yīng)用于定義復(fù)晶硅電容及負(fù)載用之復(fù)晶硅,；4)間隙壁(spacer)蝕刻：應(yīng)用于定義ldd寬度；5)接觸窗(contact)及引洞(via)蝕刻：應(yīng)用于定義接觸窗及引洞之尺寸大�,�,；6)鎢回蝕刻(etchback)：應(yīng)用于鎢栓塞(w-plug)之形成；7)涂布玻璃(sog)回蝕刻：應(yīng)用于平坦化制程,；8)金屬蝕刻：應(yīng)用于定義金屬線寬及線長(zhǎng),；9)接腳(bondingpad)蝕刻等。

影響干法蝕刻特性好壞的因素包括了：1)干法蝕刻系統(tǒng)的型態(tài),；2)干法蝕刻的參數(shù),；3)前制程相關(guān)參數(shù)，如光阻,、待蝕刻薄膜之沉積參數(shù)條件,、待蝕刻薄膜下層薄膜的型態(tài)及表面的平整度等。