簡述真空鍍膜加工與光學(xué)鍍膜加工之間的區(qū)別

     真空鍍膜加工主要用于產(chǎn)品表面裝飾鍍,，改變產(chǎn)品外觀，透明真空電鍍,，光學(xué)鍍膜加工目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射,、分束、分色,、濾光,、偏振等要求。    兩者之間概念上的區(qū)別：真空鍍膜加工主要是指高真空條件下加熱金屬或非金屬材料,，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面形成薄膜,。而光學(xué)鍍膜加工是指光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。

       原理的區(qū)別：真空鍍膜加工是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,，pet真空電鍍,，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法,，并吸收電子束,、分子束、離子束,、等離子束,、射頻和磁控等一系列新技術(shù)。光學(xué)鍍膜是借助真空濺射的方式鍍制薄膜,，控制基板的入射光束反射率與透過率,。

真空電鍍廠介紹影響電鍍的因素

真空電鍍廠介紹，影響電鍍的因素很多﹐包括鍍液的各種成分以及各種電鍍工藝參數(shù),。利用電解池原理在機(jī)械制品上沉積出附著-的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù),。下面就其中某些主要因素進(jìn)行討論,。=

ph值的影響

鍍液中的ph值可以影響氫的放電電位﹐堿性夾雜物的沉淀﹐還可以影響絡(luò)合物或水化物的組成以及添加劑的吸附程度。通過加入緩沖劑可以將ph值穩(wěn)定在一定范圍,。

添加劑的影響

真空電鍍廠闡述,，鍍液中的光亮劑﹐整平劑﹐潤濕劑等添加劑能明顯-鍍層組織。

電流密度的影響

任何電鍍都必須有一個(gè)能產(chǎn)生正常鍍層的電流密度范圍,。當(dāng)電流密度過低時(shí)﹐陰極極化作用較小﹐鍍層桔晶粗大﹐甚至沒有鍍層,。隨著電流密度的增加﹐陰極極化作用隨著增加﹐鍍層晶粒越來越細(xì)。

攪拌的影響

真空電鍍廠概述,，攪拌可降低陰極極化﹐使晶粒變粗﹐但可提高電流密度﹐從而提高生產(chǎn)率,。此外攪拌還可增強(qiáng)整平劑的效果,。