1化學(xué)氣相沉積cvd反應(yīng)溫度一般在900~1200℃，中溫cvd例如mocvd金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積,，反應(yīng)溫度在500~800℃,。若通過(guò)氣相反應(yīng)的能量，還可把反應(yīng)溫度降低,。

“輔助”cvd的工藝較多,，主要有：

電子輔助cvdeacvd也稱(chēng)為電子束輔助cvd，眼鏡鍍膜設(shè)備,，電子增強(qiáng)cvd,，或電子束---cvd，涂層的形成在電子作用下得到改進(jìn),。

激光輔助cvdlacvd),，也稱(chēng)為激光cvd或光子輔助cvd，鍍膜設(shè)備,，涂層的形成在激光輻照作用下得到改進(jìn),。

熱絲cvd，也稱(chēng)為熱cvd,，一根熱絲放在被鍍物件附近進(jìn)行沉積,。

金屬有機(jī)化合物cvdmocvd，玻璃鍍膜設(shè)備,，是在一種有機(jī)金屬化合物氣氛這種氣氛在室溫時(shí)是穩(wěn)定的,，但在高溫下分解中進(jìn)行沉積。

借助一種惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸汽離子化,。離子鍍包括鍍膜材料如tin,，tic的受熱、蒸發(fā),、沉積過(guò)程,。

蒸發(fā)的鍍膜材料原子在經(jīng)過(guò)輝光區(qū)時(shí)，一小部分發(fā)生電離,，并在電場(chǎng)的作用下飛向工件,，以幾千電子伏的能量射到工件表面，可以打入基體約幾納米的---,，從而---提高了涂層的結(jié)合力,，而未經(jīng)電離的蒸發(fā)材料原子直接在工件上沉積成膜。惰性氣體離子與鍍膜材料離子在工件表面上發(fā)生的濺射，還可以清除工件表面的污染物,，從而---結(jié)合力。