高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石墨,在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu),、細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)和超細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)三類,,高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片,,目前硅單晶的成長工藝主要采用直拉(cz)法,,其他方法還有磁場直拉法(mcz),、區(qū)域(fz)法以及雙坩堝拉晶法,島津石墨錐價(jià)格,,全球電子工業(yè)用直拉單晶硅約占單晶硅總用量的80%,,直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品,采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng),。2005年中國需要直拉硅單晶爐用石墨約800t,。
高純石墨另一重要用途是加工成各類坩堝,用于生產(chǎn),、稀有金屬或高純金屬,、非金屬材料。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨,,可用于除碳素以外的所有元素的光譜化學(xué)分析,,光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型。成品的雜質(zhì)元素含量應(yīng)不大于6*10-5在光譜分析中制備標(biāo)準(zhǔn)樣品和用化學(xué)方法捕集雜質(zhì)時(shí)需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉,,島津石墨錐批發(fā),,這兩種高純材料對(duì)雜質(zhì)含量的要求都是在6*10-5;在某些用途方面,,需要含碳量達(dá)到99.9995%,,總灰分含量小于5*10-6。高純石墨的成型方法有擠壓成型,、模壓成型及等靜壓成型三種,。
對(duì)于小于lum的石墨錐材微粒子,采用光透過法粒度自動(dòng)測定裝置,。光透過法是在粉體沉降所產(chǎn)生懸浮液濃度的變化過程中,,將光束射入,由粉體的光遮斷量,,間接地測粒度分布,。采用間接法,使操作手續(xù)---簡化,。在微粉測定過程中,,問題是粒子的凝聚。因此,,用光透過法測定微粉粒度時(shí),,理想的濃度是做成含石墨錐0.05 %的低濃度懸浮液,并 加入適量的分散劑使其分散,。這種方法詳述如下:
1,、所使用的儀器設(shè)備和材料:
采用skc—2000型顆粒分析儀,,sk型超聲波彌散器,,微型電力攪拌器和3%羧纖維素溶液,。
2、所用石墨錐試液的配制
測定石墨錐乳原料粒度的分散液按下述方法配制:在500ml蒸餾水中,,加少許羧 纖維素粉末,,充分?jǐn)嚢枋蛊渫耆芙猓胖?4h后測定粘度,。將粘度調(diào)整為0.5 ~ lpa.ss,, 即制成了分散液。取3g石墨錐粉末,,島津石墨錐,,放入研缽,加入3%羧纖維素溶液3g,,用玻璃棒調(diào)和再加少許蒸餾水調(diào)整石墨錐試液,。然后進(jìn)行試濃濃度調(diào)整,調(diào)整時(shí)在200ml的燒杯中,, 加入100ml分散液,,滴入一滴石墨錐試液,撹勻后用超聲波彌散器分散3min,,然后將試液倒入樣品試管中,。
3、顆粒粒度測定
測定前按規(guī)定調(diào)整好儀器,,并用分散液進(jìn)行空白校正,。調(diào)整好記錄筆,將樣品放入離心機(jī),,島津石墨錐,,進(jìn)行離心沉降測定。以兩次測定結(jié)果的算術(shù)平均值作為測足結(jié)采,。市量累積百分?jǐn)?shù),,各粒級(jí)兩次測定值之差不得超過6%,否則必須進(jìn)行第二次測量,。以二次中不超過誤差標(biāo)準(zhǔn)的兩次測定值計(jì)算結(jié)果,。整個(gè)粒度測定過程是在25 ± 2的恒溫室內(nèi)進(jìn)行。
石墨爐原子吸收光譜法是目前測定多種物料中痕量及超痕量無機(jī)成分的有效手段,,已廣泛用于-中相關(guān)行業(yè),。其原子化器----石墨錐是一個(gè)關(guān)鍵的部件.本著進(jìn)口儀器配件國產(chǎn)化的精神,我公司采用進(jìn)口材料研制石墨錐,,與yy系列石墨管相結(jié)合使用.其各項(xiàng)測試性能指標(biāo)與進(jìn)口同類型石墨錐基本一致.
1.適用規(guī)格:
yy系列石墨錐用于原子吸收分光譜儀,,采用三高石墨經(jīng)過特殊工藝處理后車制而成.
2.使用方法:
按照儀器規(guī)定程序安裝好石墨錐,安裝務(wù)必---,。
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