依據(jù)機(jī)械加工原理,、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論,、表面工程學(xué).半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,，宣城拋光墊,， 對硅單品片化學(xué)機(jī)械拋光( cmp )機(jī)

理,、動力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,，拋光墊市場，化學(xué)機(jī)械拋光液是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng) ,，它存在著兩個(gè)動力學(xué)過程:

(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑,、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體,。

(2 )拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,，即解吸過程使未反應(yīng)的硅單品重新出來的動力學(xué)過程,。它是控制拋-率的另一個(gè)重要過程,。