淺談鍍鎳電鍍液去除銅雜質(zhì)的方法

　　銅離子是光亮鍍鎳中較常見的雜質(zhì)之一,。鍍液受cu2+污染，會使鍍件低電流密度區(qū)光亮度差,，過多的cu2+還會造成鍍層脆性增大及結(jié)合力---的弊病,。在光亮鍍鎳液中，ρcu2+應(yīng)小于0.01g/l,。去除鍍液中的cu2+有以下幾種方法,。

　　1電解法。即用低電流密度使鍍液中的cu2+沉積在處理陰極板上的方法,。用于處理的陰極板有波紋板,、鋸齒板和平面板三種型式。波紋板在施加一定電流電解時,，陰極板上jκ范圍較廣,，波峰處jκ較大，波谷處jκ較小,，所以能使cu2+和其他金屬雜質(zhì)同時沉積,，達(dá)到去除多種雜質(zhì)的目的。鋸齒形陰極板受效應(yīng)的影響,，電解過程中ni2+和cu2+同時沉積,，造成鍍液中鎳鹽損失增加,。采用平板陰極可以使用不同的jκ，達(dá)到有選擇地去除金屬雜質(zhì)的目的,。據(jù)經(jīng)驗,，jκ為0.---/dm2時有利于cu2+在陰極析出。

　　不論采用哪種型式的陰極進(jìn)行電解處理都應(yīng)注意幾個問題：a.長時間電解處理時,，應(yīng)定時清洗電解板,，防止電解板上疏松鍍層脫落重新污染鍍液；b.采用陰極移動或空氣攪拌可以提高處理效果,；c.電解處理中使用的陽極板必須是的鎳陽極板,，否則將影響處理效果，造成不---的浪費(fèi),。

　　2化學(xué)沉淀劑法,。常見的有qt除銅劑，該沉淀劑主要成分是亞鐵青化物,，在鍍液中與cu2+生成亞鐵青化銅沉淀,，然后過濾出沉淀，達(dá)到去除銅雜質(zhì)的目的,。此方法的缺點是需要進(jìn)行精密過濾,，比較費(fèi)時。

　　3螯合劑法,。螯合劑一般為芳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)的有機(jī)物,，在鍍液中與cu2+形成螯合物，由于在電解中,，螯合物和ni2+共沉積,，可以使鍍液中ρcu2+不至于上升過高。這種方法簡單易行,，是目前處理鍍鎳液中雜質(zhì)較好和有效的方法,。在應(yīng)用時必須選用的螯合劑，---是要---不能對鍍層產(chǎn)生---的影響,。