多孔硬質(zhì)氧化鋁膜是理想的合成納米線結(jié)構(gòu)的模板材料,。然而通常的氧化鋁模板制備較困難,，合成納米線的工藝復(fù)雜。采用交流電沉積的方法,，在未去處鋁基體的情況下,，使金屬沉積到硬質(zhì)氧化膜孔中合成納米線的工藝較簡(jiǎn)單，可省去減薄硬質(zhì)氧化膜阻擋層并與基體分離,、噴鍍導(dǎo)電金屬層等工序,。然而施加交流電時(shí)，金屬離子在硬質(zhì)氧化膜孔中的沉積過(guò)程變得復(fù)雜,。所以,，交流電沉積條件下，探討金屬離子在多孔硬質(zhì)氧化膜的沉積歷程具有重要的意義,。通過(guò)對(duì)鋁及其合金硬質(zhì)氧化工藝的研究,，考察了硬質(zhì)硬質(zhì)氧化膜沉積金屬粒子的電化學(xué)行為，并探討了正弦交流電沉積中,，金屬離子在硬質(zhì)硬質(zhì)氧化膜孔內(nèi)的沉積歷程,，得出以下結(jié)論：

1、在恒定電壓下,，鋁硬質(zhì)氧化的電流密度隨時(shí)間的變化規(guī)律為：初始電流密度迅速下降,，之后轉(zhuǎn)為上升，后趨于穩(wěn)定,。20℃時(shí)氧化電壓與穩(wěn)定時(shí)的電流密度值呈指數(shù)關(guān)系變化,。

2、高純鋁通過(guò)電化學(xué)拋光后,，通-質(zhì)氧化制備了有序的納米尺寸孔洞的多孔硬質(zhì)氧化膜,。-硬質(zhì)氧化膜的孔洞平均直徑為約20nm，草酸的約為40nm,，而磷酸硬質(zhì)氧化膜的孔洞直徑從50nm到120nm,。

3,、u-i曲線測(cè)試發(fā)現(xiàn)，高純鋁-硬質(zhì)氧化膜具有單向?qū)�通的性��,。陰極極化曲線的結(jié)果表明,，高純鋁硬質(zhì)氧化膜的陰極極化過(guò)程可分為三個(gè)階段：初始時(shí),，電流密度變化較小而電位迅速負(fù)移,，為克服硬質(zhì)氧化膜阻擋層電阻階段：電流密度迅速增大而電位變化較小的析氫階段；之后電流密度變化較小而電位迅速負(fù)移的受氫離子擴(kuò)散控制階段,。高純鋁硬質(zhì)氧化膜愈厚,，陰極電流密度愈小,；孔徑愈大,，陰極極化電流密度愈大；阻擋層的厚度對(duì)陰極極化電流密度不產(chǎn)生影響,；結(jié)果表明,，陰極反應(yīng)過(guò)程受氫離子的擴(kuò)散控制。高純鋁硬質(zhì)氧化膜阻抗的大小由硬質(zhì)氧化膜阻擋層決定,，阻擋層愈厚,，硬質(zhì)氧化膜的阻抗愈大。氧化電壓與阻擋層的厚度成正比,，阻擋層在-,、草酸和磷酸溶液中的成長(zhǎng)率約為inm/v。

4,、通過(guò)交流電沉積,，發(fā)現(xiàn)金屬鋅能夠沉積在ly12鋁合金磷酸硬質(zhì)氧化膜和復(fù)合硬質(zhì)氧化膜的孔底。復(fù)合硬質(zhì)氧化膜在-鋅溶液中交流電沉積300s時(shí),，鋅主要分布在硬質(zhì)氧化膜孔底約2um內(nèi),，沉積量為31.404ug/cm2。從阻抗的擬合計(jì)算結(jié)果發(fā)現(xiàn),，交流沉積過(guò)程中,，首先對(duì)硬質(zhì)氧化膜的阻擋層減薄，然后隨著金屬zn的沉積,，阻擋層逐漸增厚,。

5、采用交流電沉積的方法,，在包含水溶液中,，施加10v電壓，室溫下沉積5min時(shí),，可在ly12鋁合金硬質(zhì)硬質(zhì)氧化膜上形成s復(fù)合膜,。發(fā)現(xiàn)硬質(zhì)氧化膜的厚度超過(guò)6.8um時(shí)才能形成均勻的ce復(fù)合膜,。epma分析結(jié)果表明，復(fù)合膜表面稀土ce元素的平均含量為1.70(wt)%,，且分布均勻,，主要分布在硬質(zhì)氧化膜多孔層的表層，分布-約為1.5um,。經(jīng)xrd和xps分析,，沉積在硬質(zhì)氧化膜孔中的ce主要以非晶態(tài)結(jié)構(gòu)的3價(jià)和4價(jià)氫氧化物形式存在。

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硬質(zhì)氧化行業(yè)發(fā)展已經(jīng)有一定的歷史,，-人在時(shí)間的長(zhǎng)河里,，做出-次的實(shí)驗(yàn)與總結(jié)，得到現(xiàn)代的硬質(zhì)氧化技術(shù)�,，F(xiàn)代的硬質(zhì)氧化技術(shù)需要注意什么呢,？

一、鋁合金硬質(zhì)氧化膜的性能

硬質(zhì)氧化是提高鋁基體的表面強(qiáng)度及表面功能的有效方法,。通-質(zhì)氧化,，可以得到功能性氧化鋁膜。硬質(zhì)氧化膜的性能主要取決于電解液的類型,、濃度以及氧化過(guò)程的條件,。硬質(zhì)氧化膜具有的主要性能為：硬質(zhì)氧化膜的多孔性，吸附性能,，硬度,，耐蝕性，絕緣性,，光功能性,，結(jié)合力等。

二,、電解液的影響

電解液對(duì)阻擋層厚度,，壁厚，氣孔直徑等有不同的影響,。硬質(zhì)氧化使用的電解液重要的性質(zhì)是它們有合適的二次溶解能力,。二次溶解能力不同，則得到的硬質(zhì)氧化膜結(jié)構(gòu)性能不同,，二次溶解能力低的電解液如硼酸,，得到的是阻擋層性質(zhì)的薄膜。具有中等二次溶解能力的電解液如-,，草酸和-,，得到的是較薄的阻擋層和較厚的孔外層組成；即使中等二次溶解能力的電解液也彼此有區(qū)別，對(duì)-,，草酸和-三種電解液研究發(fā)現(xiàn),，它們的氧化孔徑大小順序如下：-<草酸<-，膜孔密度：->;草酸>;-,。此外,，電解液的濃度對(duì)硬質(zhì)氧化膜的溶解速度也有影響，微波無(wú)極燈催化廠家,，濃度高時(shí),，硬質(zhì)氧化膜的溶解速度較快，膜的生長(zhǎng)較慢,，影響了膜的厚度,。

三,、電壓參數(shù)的影響

在不同的電解液中,，微波無(wú)極燈催化方法，學(xué)多學(xué)者發(fā)現(xiàn)阻擋層在高壓下z先生成,，其厚度與“生成電壓”成正比,，電壓的升高，阻擋層的厚度,，多孔膜的胞徑均成線性的增加,，當(dāng)電壓達(dá)到一定程度之后，它們反而會(huì)減�,�,；在氧化期間，突然降低電壓,，或增加電壓可形成膜孔隙的分支結(jié)構(gòu),。

四、電流參數(shù)的影響

電流密度的提高,，硬質(zhì)氧化膜的生成較快,；反之減小電流密度，膜的生成速度緩慢,，但是膜相當(dāng)致密,；當(dāng)電流密度提高時(shí)，會(huì)加速硬質(zhì)氧化膜的溶解,。研究發(fā)現(xiàn)電流密度的改變對(duì)膜的內(nèi)層無(wú)影響,，但影響膜的外層厚度。

五,、電解液溫度的影響

當(dāng)電解液的溫度升高時(shí),，硬質(zhì)氧化膜的溶解速度加快，生長(zhǎng)速度減慢，硬質(zhì)氧化膜的厚度減�,�,；反之亦然。氧化溫度愈高,，電解液的溶解能力就愈大,。反之溫度愈低，硬質(zhì)氧化膜就愈厚,，并且硬質(zhì)氧化膜的致密度也愈大,，耐腐蝕性也愈大。但是溫度也不能太低,，溫度太低就會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)效率低,，電能消耗大。一般氧化溫度控制在10℃-30℃,。

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