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永州太陽能板電池板價(jià)格-振鑫焱免費(fèi)上門

價(jià)格
時(shí)間
議定
2021-10-18  
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電池片的制作工藝

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購:回收硅片,電池片,,初級(jí)多晶硅,,銀漿布,單晶硅,,多晶硅,,太陽能電池,光伏組件,,太陽能電池板,,客戶撤退,,降級(jí),庫存,,el,,---測(cè)試,二手,,舊,,工程,拆卸,,路燈,,拆解電站,拆卸,,膠合板,,層壓板,無邊界晶體硅,,多晶硅,,單晶硅,實(shí)驗(yàn)板,,---償還,,返工,光伏模塊回收等,。


刻蝕工藝

刻蝕目的

將硅片邊緣的帶有的磷去除干凈,,避免 pn 結(jié)短路造成并聯(lián)電阻降低。

刻蝕原理

采用干法刻蝕,。采用高頻輝光放電反應(yīng),, 采用高頻輝光放電反應(yīng),使反應(yīng)氣體---成活性粒子,,如原子或各種游離基,,這些活性粒子擴(kuò)散到硅片邊緣,在那里與硅進(jìn)行反應(yīng),,形成揮發(fā)性生成物四---硅而被去除,。

化學(xué)公式: cf 4 +sio 2 =sif 4 +co 2

工藝流程

預(yù)抽,主抽,,送氣,,輝光,抽空,,清洗,,預(yù)抽,主抽   ,,充氣,。

影響因素

1. 射頻功率

射頻功率過高:等離子體中離子的能量較高會(huì)對(duì)硅片邊緣造成較大的轟擊損傷,,導(dǎo)致邊緣區(qū)域的電性能差從而使電池的性能下降。在結(jié)區(qū)耗盡層造成的損傷會(huì)使得結(jié)區(qū)復(fù)合增加,。

射頻功率太低:會(huì)使等離子體不穩(wěn)定和分布不均勻,,從而使某些區(qū)域刻蝕過度而某些區(qū)域刻蝕不足,導(dǎo)致并聯(lián)電阻下降,。

2. 時(shí)間

刻蝕時(shí)間過長:刻蝕時(shí)間越長對(duì)電池片的正反面造成損傷影響越大,,時(shí)間長到一定程度損傷不可避免會(huì)延伸到正面結(jié)區(qū),從而導(dǎo)致?lián)p傷區(qū)域高復(fù)合,。

刻蝕時(shí)間過短:刻蝕不充分,,沒有把邊緣鱗去干凈, pn 結(jié)依然有可能短路造成并聯(lián)電阻降低,。

4.   壓力

壓力越大,,氣體含量越少,參與反應(yīng)的氣體也越多,,刻蝕也越充份,。





晶體硅電池片

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晶體硅電池片檢驗(yàn)方法:


2 外觀目測(cè):

a. 與表面成 35 °角日常光照情況下觀察表面顏色,,目視顏色均勻 一致 ,無明顯色差花斑,、水痕,、手印、劃痕及污垢,。

b. 隱裂:電池片有隱裂,、 肉眼可見的裂紋, 均視為不合格

c. 背面鋁背電極完整,,表面平整 ,、 邊界清晰 、 無明顯凸起的“鋁珠 ,, 脫落 3mm 2   / 個(gè) ≤ 5mm 2 ,、鼓泡累計(jì)面積≤5mm

2  ,  背面鋁膜與基體材料的附著強(qiáng)度?   背膜燒結(jié):用層壓機(jī) 130 — 145 度,超過 10 分鐘,。冷卻到室溫后,,用刀片隔開 1cm 的寬度,用大于 50n 的拉力,,鉛膜不隨 eva 脫落,,則認(rèn)為合格。

d. 受光面柵線:主柵線均勻完整,,柵線印刷清晰,、對(duì)稱;主柵線與細(xì)柵線處允許≤ 1mm ,;細(xì)柵線允許≤ 2mm 的脫落,;柵線印刷偏離,明顯兩次印刷的返工片視為不合格,;斷點(diǎn)的總數(shù)≤ 60mm,。

e. 崩邊:每一邊不超過兩處崩邊,崩邊間距*** 30mm ,、---≤ 0.5 片子厚度,、面積≤ mm 2

f . 電池邊緣缺角面積不超過 1mm 2 ,數(shù)量不超過 2 個(gè)。缺角:一邊有一處崩邊,,面積≤5mm 2 ,,一邊由兩處崩邊、面積≤3mm 2

g. 電池的崩邊,、鈍形缺口等外形缺損的尺寸要求:長度不大于 1.5mm ,,由邊緣向中心的---不大于 0.5mm ,同一片電池上正面出現(xiàn)此類外形缺損數(shù)量不超過兩處,。同時(shí)不允許電池上 v 形缺口,。





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擴(kuò)散工藝

擴(kuò)散目的

在來料硅片 p 型硅片的基礎(chǔ)上擴(kuò)散一層 n 型磷源,形成 pn 結(jié),。

擴(kuò)散原理

pocl 3 在高溫下 >; 600 ℃ 分解生成五--- pcl 5 和五氧化二磷 p 2 o 5 ,, 其反應(yīng)式如下 :

5pocl 3=3pcl 5 +p 2 o 5

生成的 p 2 o 5 在擴(kuò)散溫度下與硅反應(yīng) , 生成二氧化硅 sio 2 和磷原子 ,, 其反應(yīng)式如下 :

2p 2 o 5+ 5si = 5sio 2  + 4ppocl 3

熱分解時(shí),,如果沒有外來的氧 o 2 參與其分解是不充分的,生成的 pcl5 是不易分解的,,并且對(duì)硅有腐蝕作用,,破壞硅片的表面狀態(tài)。但在有外來 o2 存在的情況下,, pcl 5 會(huì)進(jìn)一步分解成 p2o 5 并放出--- cl 2 其反應(yīng)式如下:  

4pcl 5 +5o 2=2p 2 o 5 +10cl 2

生成的 p 2 o 5 又進(jìn)一步與硅作用,,生成 sio 2 和磷原子,由此可見,,在磷擴(kuò)散時(shí),,為了促使 pocl3 充分的分解和避免 pcl 5 對(duì)硅片表面的腐蝕作用,必須在通氮?dú)獾耐瑫r(shí)通入一定流量的氧氣,。就這樣 pocl 3 分解產(chǎn)生的 p 2 o 5 淀積在硅片表面,, p 2o 5 與硅反應(yīng)生成 sio 2 和磷原子,并在硅片表面形成一層磷 - 硅玻璃,,然后磷原子再向硅中進(jìn)行擴(kuò)散,。





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