濺射靶材ito靶材的生產(chǎn)工藝 ito靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(hip)、濺射靶材熱壓法(hp)和氣氛燒結(jié)法,。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡(jiǎn)介如下：

 熱等靜壓法：ito靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體,，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高,、物理機(jī)械性能好,，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高,，撫順銀墊圈,，產(chǎn)品的缺氧率高。

根據(jù)電解質(zhì)的種類可分為氯化物熔鹽體系和-物-氧化物熔鹽體系電解法,，銀墊圈價(jià)格,，多用于制取以-為主的混合稀土金屬以及-、鐠,、釹等單一稀土金屬,。熔鹽電解法為連續(xù)性生產(chǎn)過程,，產(chǎn)量較大，設(shè)備簡(jiǎn)單,，哪里有銀墊圈,，成本較低，但電解槽需用耐高溫氯化物或-物腐蝕的結(jié)構(gòu)材料制造,。

還原制得含稀土99%的稀土金屬經(jīng)真空精煉(包括真空蒸餾或升華),、電傳輸、區(qū)域熔煉,、熔鹽電解精煉等方法處理除去非稀土雜質(zhì)后,，可獲得純度超過99.9%的稀土金屬產(chǎn)品。