公司依靠---的技術(shù),、完善的網(wǎng)絡(luò)、嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓芾�,、�?yán)格的把關(guān)和的售后服務(wù),。在多個(gè)行業(yè)的項(xiàng)目上取得了豐富的經(jīng)驗(yàn)。---用戶---,。我公司嚴(yán)格按照iso9001國(guó)際體系標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn),,在原材料的選購(gòu)上,堅(jiān)持擇優(yōu)選擇,、采購(gòu),,嚴(yán)把進(jìn)場(chǎng)檢驗(yàn)關(guān),所有原材料包括輔助部分都必須經(jīng)檢驗(yàn)后方可進(jìn)入生產(chǎn)工序,。在生產(chǎn)過(guò)程中更是步步為營(yíng),,嚴(yán)把每個(gè)步驟的檢驗(yàn)關(guān),碳化硅陶瓷噴嘴,,---出場(chǎng)產(chǎn)品合格率達(dá)到百分之99,。
公司自成立以來(lái),始終奉行“以科技為先導(dǎo),,以求生存,,以信譽(yù)求發(fā)展”的企業(yè)宗旨,一直恪守“不斷---,,研發(fā)---,,科學(xué)管理,用戶”的經(jīng)營(yíng)方針,,保障客戶得到滿意的服務(wù),,以穩(wěn)固、發(fā)展,、團(tuán)結(jié)與---的精神,,尊重人才注重技術(shù),使客戶在享受服務(wù)的同時(shí)不斷獲得收益,。歡迎各界有識(shí)之士前來(lái)指導(dǎo),,洽談業(yè)務(wù)及合作開(kāi)發(fā),。公司主要經(jīng)營(yíng)以下業(yè)務(wù):1、除塵,、脫硫,、脫硝工程2、脫硫,、脫硝化學(xué)品及除塵設(shè)備的銷售和技術(shù)服務(wù).
強(qiáng)制氧化是防止?jié)穹摿蛳到y(tǒng)結(jié)垢和堵塞以及脫硫 廢渣二次污染問(wèn)題的關(guān)鍵,。文中提出將射流曝氣技術(shù)應(yīng)用 于石灰石/石膏濕法脫硫的強(qiáng)制氧化工藝,并利用雙膜理論 針對(duì)射流曝氣強(qiáng)制氧化工藝的氣液相際傳質(zhì)特點(diǎn)進(jìn)行了理 論分析,,結(jié)果表明,,射流曝氣器作為一種氣液兩相介質(zhì)化學(xué) 反應(yīng)傳質(zhì)混合設(shè)備,充分利用---混合作用,,提高了能量的 綜合利用率,,噴嘴,對(duì)某濕法脫硫工程能耗的計(jì)算結(jié)果表明:采用 射流曝氣方式能耗節(jié)省達(dá)20%以上,,脫硫成本降低,,有利于 實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵脫硫設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化
噴嘴出廠檢測(cè)的---性
噴嘴出廠檢測(cè)是非常重要的一個(gè)生產(chǎn)環(huán)節(jié),針對(duì)當(dāng)前各大電廠脫硫超凈改造項(xiàng)目,,各大脫硫總包公司選配的噴淋循環(huán)泵富余量都相對(duì)較小,,這就對(duì)噴嘴的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)提出更高的要求,一般的都需要把流量偏差控制在±5%,,噴射角度偏差控制在±5%,。噴嘴流量設(shè)計(jì)偏大,循環(huán)泵壓力上不去,,噴射角度打不開(kāi),,霧化粒徑達(dá)不到要求,進(jìn)而影響脫硫效率,,如果流量偏小,,單位時(shí)間內(nèi)石灰石漿液與煙氣的接觸比表面積減小,so2吸收不充分,,反應(yīng)燒結(jié)碳化硅噴嘴,,容易造成so2逃逸,所以流量必須控制在設(shè)計(jì)允許的范圍內(nèi),。此外,,噴射角度也是很重要的參數(shù),噴射角度偏大,,漿液會(huì)沖擊塔內(nèi)橫梁及塔壁,,時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)導(dǎo)致防腐層脫落進(jìn)而引起腐蝕,噴射角度偏小又會(huì)導(dǎo)致漿液覆蓋率達(dá)不到要求,降低脫硫效率,。所以,,噴嘴的噴射角度也是必須要重視的。
噴嘴霧化粒徑也是---脫硫效率的重要指標(biāo)之一,,碳化硅脫硫噴嘴,,噴嘴的霧化粒徑一般在1700-2300μm之間,脫硫噴嘴霧化粒徑的出廠測(cè)試較難,,首先,,霧化顆粒是動(dòng)態(tài)且不均勻的,顆粒的重復(fù)性較差,,其次,,傳統(tǒng)的激光粒度測(cè)試儀適合用于測(cè)試<500μm的霧滴或液滴,超過(guò)1500μm的粒徑測(cè)---激光法將不再準(zhǔn)確,,而且,,pada/pci等激光測(cè)試設(shè)備適用于霧化顆粒是球形的工況,,噴嘴霧化顆粒是受一定離心力被刷出來(lái)的,,顆粒呈現(xiàn)橢球形,pada/pci等測(cè)試方法測(cè)試脫硫噴嘴霧化粒徑也受到一定---,,目前,,---的測(cè)試脫硫噴嘴霧化粒徑的方法是圖像法,大量程噴霧圖像粒度分析儀是目前測(cè)量sauter平均直徑在500-3000μm內(nèi)為準(zhǔn)確的測(cè)試方法,。
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