磁控濺射目前是一種應用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，加工注塑led燈反光杯,，使磁控濺射應用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域,。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，廣州led燈反光杯,，主要應用在化學氣相沉積cvd或金屬有機化學氣相沉積mocvd生長困難及不適用的材料薄膜沉積而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜,。包括歐姆接觸的a1、cu,、au,、w、ti等金屬電極薄膜及可用于柵絕緣層或擴散勢壘層的tin,、ta205,、ti0、a1203、zr02,、a1n等介質(zhì)薄膜沉積,。

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真空鍍膜的形式：蒸發(fā)鍍膜

工藝原理：

1在真空室中,，膜料被加熱變成蒸發(fā)原子，蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

體分子碰撞而到達工件表面,；

2蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射,，另一部分被吸附；

3吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴散,。