3,、清鎮(zhèn)jx1149多功能等離子處理系統(tǒng)optiglow acejx1156-內(nèi)容

應(yīng)用領(lǐng)域：

• 生物芯片領(lǐng)域

• 材料、光學(xué)材料研究

• 電子半導(dǎo)體領(lǐng)域

• 高分子材料研究

• 電化學(xué),、---零部件處理

• 有機材料的灰化,、刻蝕

儀器性能：

• 自動調(diào)頻高頻發(fā)生器

• 內(nèi)置旋轉(zhuǎn)真空泵

• 此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體,，氧去除有機物質(zhì)碳?xì)浠�合物，氬對樣品表面進(jìn)行刻蝕

• 低溫等離子灰化,、刻蝕,、清洗 (0-150 watts rf)

• 真空監(jiān)測.

• 雙重氣流針閥控制

• ---時間定時

• 微處理器程序設(shè)置

• lcd狀態(tài)數(shù)字顯示

• 腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng),，樣本操作方便

• 聚碳酸脂安全防護(hù)  

全自動多功能等離子表面處理系統(tǒng)應(yīng)用于小型及研發(fā)實驗室的使用和發(fā)展歷史已經(jīng)超過了20年,，隨著研發(fā)提升及軟硬件更新，現(xiàn)在的系統(tǒng)不但擁有使用的高穩(wěn)定性和---率外,，其集成化設(shè)計和友好操作界面使得用戶上手操作及參數(shù)調(diào)整都非常簡易,。

射頻等離子體是廣泛使用和通用性好的等離子體技術(shù)，它應(yīng)用于-和半導(dǎo)體的寬廣領(lǐng)域內(nèi),。在通用工業(yè)/-行業(yè),，需要清潔、涂覆或化學(xué)改性的材料表面被浸入到射頻等離子體的能量環(huán)境中,，除了射頻等離子體的-的化學(xué)作用外,，其定向效應(yīng)也起到了一個重要的作用。攜帶動量的粒子到達(dá)材料表面后可以物理地去除化學(xué)惰性的表面沉淀物如金屬氧化物和其它無機物沉淀以及交聯(lián)聚合物以鎖定等離子體的處理,。  

optiglow  ace 是-設(shè)計用于等離子體處理包括灰化,清洗,表面活化,改性和刻蝕,，具有功能性多、易操作性強,、無需調(diào)試,、-性高、低成本的優(yōu)點,，廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造,，微電子微納加工，生命科學(xué)器件制造和前處理等,。ace適合多種工藝氣體,，如ar、o2,、空氣及化合物氣體如cf4,，通過2個氣體流量控制氣體 準(zhǔn)和提高系統(tǒng)控制性能。除了結(jié)構(gòu)緊湊和集成度高外,，-的射頻rf激發(fā)等離子體(13.56mhz,10-150w)配合-的工藝控制,、失效保護(hù) 系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件使其很容易安裝在實驗室或環(huán)境中。
optiglow  75 (100khz,75w)是理想的用于等離子表面改性,，表面活化胺化團(tuán),，光刻膠剝離和清洗，在涂層鍍膜,  沉積繪圖和覆膜前增加基底鍵合強度，粘性和濕性,。