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鎮(zhèn)江陶瓷電路板清洗用EDI超純水設(shè)備 電子產(chǎn)品用超純水設(shè)備

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無錫匯泉凈化設(shè)備有限公司為您提供鎮(zhèn)江陶瓷電路板清洗用edi超純水設(shè)備 電子產(chǎn)品用超純水設(shè)備,。光超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
我公司超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國astm純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18mω.cm,、15mω.cm,、10mω.cm、2mω.cm,、0.5mω.cm五級標(biāo)準(zhǔn)),、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo),、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),、---外-集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
超純水系統(tǒng)前景
清洗行業(yè)超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù),,再次從---上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì),,與此同時,edi處理設(shè)備廢水產(chǎn)出量少,不會對環(huán)境造成污染,,有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟效益,,其發(fā)展前景廣闊,。
3edi設(shè)備優(yōu)點
a、無需酸堿再生,,無化學(xué)藥劑使用,,無酸堿廢水排放,生產(chǎn)過程無任何污染,,屬清潔生產(chǎn),;
b、無需停機再生,,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水,;
c、運行穩(wěn)定---,,降低運行和維修費用,;
d、無需派專門人員看守,,易于實現(xiàn)設(shè)備自動化控制,;
e、設(shè)備占地面積小,,減少車間建設(shè)面積,,節(jié)約場地建設(shè)費用投資。
f,、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進行個性化設(shè)計,,結(jié)合的控制軟件,現(xiàn)場在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),,避免人工誤操作,,多方位---系統(tǒng)長期穩(wěn)定運行。
4應(yīng)用領(lǐng)域
a,、制藥行業(yè),、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室,。
b,、在表面清洗、表面涂裝,、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛,。
c、半導(dǎo)體材料、器件,、印刷電路板和集成電路,;
d、超純材料和超純化學(xué)試劑,;
e,、實驗室和中試車間;
f,、汽車,、家電表面拋光處理;
g,、光電產(chǎn)品,;
h、其他---精微產(chǎn)品
5edi性比較
(1)產(chǎn)水水質(zhì)比較
edi裝置是一個連續(xù)凈水過程,,因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,,電阻率高可達(dá)18.25mω-cm,達(dá)到超純水的指標(biāo),�,;齑搽x子交換設(shè)施的凈水過程是間斷式的,,在---被再生后,,其產(chǎn)品水水質(zhì)較高,,而在下次再生之前,其產(chǎn)品水水質(zhì)較差,。
(2)投資量比較
與混床離子交換設(shè)施相比edi裝置投資量要高約20%左右,,但從混床需要酸堿儲存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護,、樹脂更換來看,兩者費用相差在10%左右,。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn),edi裝置所需的投資量會---的降低,。另外,,edi裝置設(shè)備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床,。
(3)運行成本比較
edi裝置運行費用包括電耗,、水耗、藥劑費及設(shè)備折舊等費用,,省去了酸堿消耗,、再生用水、廢水處理和污水排放等費用,。
在電結(jié)論:在運行費用中,,edi裝置噸水運行成本在1.8元左右,,常規(guī)混床噸水運行成本在3.2元左右,高于edi裝置,。因此,,edi裝置多投資的費用在1-2年內(nèi)完全可以回收。
6edi設(shè)備安裝要求
1無須專做安裝基礎(chǔ),,地基堅實水平即可
2入水水壓如低于0.2 mpa需加裝管道泵
3使用前需先沖洗管道,,避免雜質(zhì)堵塞閥體,污染樹脂
4 不可用加碘鹽,、加鈣鹽作再生劑,定期向鹽罐加鹽,,---鹽水飽和濃度應(yīng)---溶 解時間 不小于六小時,。
5設(shè)備配置
edi純水設(shè)備操作運行維護
edi純水設(shè)備的---的長期運行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設(shè)計,而且取決于正確的運行和維護,。這包含系統(tǒng)的初期啟動和運行過程中的啟動/停機,。為了保持系統(tǒng)的長期---運行,需要對系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)進行定期記錄,,以便日后日常運行維護,。而且日常運行維護數(shù)據(jù)對于在設(shè)備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。
1,、啟動前的檢查通過運行反滲透裝置,,將其處于回流狀態(tài)。
2,、檢測流量開關(guān)動作以及相關(guān)連鎖動作是否正確若需要的話,,ro連鎖動作也需要測試
3、設(shè)定報警控制值,;
4,、初次啟動
正確的edi設(shè)備啟動對于準(zhǔn)備將edi投入正常運行操作和防止edi模塊由于流量過大,水錘或電流過載而損壞是非常---的,。遵守以下程序也能有助于---系統(tǒng)處于系統(tǒng)設(shè)計參數(shù)下運行從而獲得符合設(shè)計要求的產(chǎn)水,。對于系統(tǒng)的啟動運行,系統(tǒng)運行的數(shù)據(jù)是一個重要的組成部分,。在啟動edi系統(tǒng)之前,,ro系統(tǒng), edi模塊的安裝,,儀表的校正工作,,其他系統(tǒng)的檢查都應(yīng)當(dāng)已經(jīng)完成。接下來是edi系統(tǒng)啟動程序,;
5,、edi啟動程序
在將管路連接至cedi之前,,請先確認(rèn)所有前級預(yù)處理設(shè)備和管路已符合清潔要求。
---所有連接至cedi模塊的管路連接正確, 管路已符合清潔要求,。
檢查所有相關(guān)的手動閥門處于正確的位置和開啟/關(guān)閉狀態(tài),。進水閥、產(chǎn)水閥,、超純水箱進水閥和濃水流量控制閥處于完全開啟狀態(tài),。
在沖洗過程中,檢查所有管路連接和閥門,,---無泄漏,。如果---的話,鎖緊連接部分,。
確認(rèn)cedi模塊至電源供電模塊的接線正確,。
啟動ro產(chǎn)水輸送泵。調(diào)節(jié)閥門開度至設(shè)計流量和設(shè)計壓力,。檢查設(shè)計回收率和實際回收率,。一直注意檢查系統(tǒng)壓力.
在設(shè)計流量下,調(diào)節(jié)閥門直至產(chǎn)水壓力比濃水排放壓力高2-5psig,。 重復(fù)以上步驟,,直至系統(tǒng)運行符合設(shè)計產(chǎn)水量和濃水流量。計算系統(tǒng)回收率,,與設(shè)計值比較,。
開啟模塊電源開關(guān),緩慢調(diào)節(jié)顯示板直流電源至需要數(shù)值,。注意觀察出水水質(zhì),。
記錄所有運行數(shù)據(jù)。
測試所有流量限位開關(guān)和相關(guān)連鎖動作,。---當(dāng)濃水循環(huán)流量不足時,, edi供電模塊斷電。
繼續(xù)將cedi處于循環(huán)狀態(tài),,直至產(chǎn)水指標(biāo)達(dá)到要求,。 一旦edi出水指標(biāo)達(dá)標(biāo),將edi產(chǎn)水閥至后級水箱打開,,將edi產(chǎn)水回流閥至ro水箱關(guān)閉,。再次確認(rèn)產(chǎn)水壓力比濃水排放壓力高2-5psig。將系統(tǒng)運行值與設(shè)計值比較,;在系統(tǒng)運行穩(wěn)定后水質(zhì)和流量,,在日常運行數(shù)據(jù)記錄表中記錄運行數(shù)據(jù)。將運行模式選定在自動模式,。
在系統(tǒng)運行的---1周,,定期檢查系統(tǒng)的運行情況以---系統(tǒng)正常---的運行,。
6、運行啟動
一旦edi系統(tǒng)已經(jīng)啟動,,實際上,,edi系統(tǒng)不可避免的會或多或少的停機和重啟動。每次的停機和重啟動都意味著壓力和流量的變化,,以及對edi模塊的機械性沖擊,。因此,系統(tǒng)的停機和重啟動的次數(shù)應(yīng)當(dāng)盡可能的少,,以---edi系統(tǒng)的平穩(wěn)運行,。
在系統(tǒng)啟動之前和過程中的檢查應(yīng)當(dāng)作為一種日常工作進行,并且做好工作記錄,。儀表的校正,,報警,安全設(shè)備和管路泄漏性檢查也應(yīng)當(dāng)作為一種日常工作進行,。
7、停機
將電流和電壓調(diào)至為0,,關(guān)閉edi模塊的供電電源,。
停運反滲透產(chǎn)水輸送泵。
關(guān)閉每個edi模塊的進水閥,。
關(guān)閉edi模塊的隔離閥

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