真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍,、真空離子鍍,、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法,。除化學(xué)氣相沉積法外,，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以---制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),，不致受到---中大量氣體分子的碰撞,、阻擋和干擾，并消除---中雜質(zhì)的---影響,。

(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),，---擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,，塑膠真空電鍍，無論是金屬,、金屬合金,、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,，真空電鍍廠家，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜,。

(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料,，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測量和控制,，從而---膜厚的均勻性,。

(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化,，把氧的分?jǐn)?shù)降低到的程度,，還可以充入惰性氣體等，這對(duì)于濕式鍍膜而言是無法實(shí)現(xiàn)的,。

(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn),，鍍膜過程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化，從而---地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量,，而且在生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境無污染,。

(6)由于在真空條件下制膜,，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好,、表面光亮不需要再加工,，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。

電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程,，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化如銹蝕,，提高耐磨性、導(dǎo)電性,、反光性,、抗腐蝕性---銅等及增進(jìn)美觀等作用。

真空鍍主要包含真空蒸鍍,、濺射鍍和離子鍍,，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,，同時(shí)具有速度快附著力好的---優(yōu)點(diǎn),，但是成本也較高,，主要加工在不銹鋼金屬表面。