具體的技術(shù)性規(guī)定：與壓力容器檢驗(yàn)有關(guān)的技術(shù)性標(biāo)準(zhǔn)較多。這類標(biāo)準(zhǔn)包括：材料標(biāo)準(zhǔn),、材料試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),、材料驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)、零部件標(biāo)準(zhǔn),、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),、工藝標(biāo)準(zhǔn)、工藝檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)等,。粗略統(tǒng)計(jì),，我國約有20余個(gè)。這些標(biāo)準(zhǔn)是產(chǎn)品特性的一系列技術(shù)參數(shù)和標(biāo)準(zhǔn)明確化的,，為特定性的技術(shù)文件,，它是衡量產(chǎn)品的尺度。
在我國這類標(biāo)準(zhǔn),，上海申江壓力容器有限公司，儲(chǔ)罐定制,，有(gb),、行標(biāo)(jbyb)等以及企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
壓力容器常見缺陷包括表面缺陷和埋藏缺陷兩大類,。
表面缺陷
表面開口裂紋是壓力容器常見的一類表面缺陷,，其成因也各不相同,，儲(chǔ)罐多少錢，但均存在應(yīng)力集中的區(qū)域,。表面開口裂紋的磁記憶信號(hào)一般較易識(shí)別,。
裂紋在擴(kuò)展以后會(huì)釋放掉應(yīng)力，在裂紋的邊緣形成新的應(yīng)力集中區(qū)域,，從而導(dǎo)致裂紋的繼續(xù)擴(kuò)展,，這是磁記憶信號(hào)在裂紋的中心區(qū)較邊緣區(qū)小甚至是無法檢測(cè)到的原因。
此外,，裂紋的檢出磁記憶信號(hào)一般存在交變特征,，儲(chǔ)罐，但由于環(huán)境因素的影響,，在進(jìn)行偏置后會(huì)出現(xiàn)過零點(diǎn)現(xiàn)象,。
圖1為同一表面裂紋在無載荷情況下的磁記憶信號(hào)，圖1(a)的磁記憶信號(hào)峰峰值是圖1(b)的2倍,。
浮頂儲(chǔ)罐的構(gòu)造
浮頂儲(chǔ)罐是由漂浮在介質(zhì)表面上的浮頂和立式圓柱形罐壁所構(gòu)成,。浮頂隨罐內(nèi)介質(zhì)儲(chǔ)量的增加或減少而升降，儲(chǔ)罐價(jià)格,，浮頂外緣與罐壁之間有環(huán)形密封裝置,，罐內(nèi)介質(zhì)始終被內(nèi)浮頂直接覆蓋，減少介質(zhì)揮發(fā),。
罐底：浮頂罐的容積一般都比較大,，其底板均采用弓形邊緣板。
罐壁：采用直線式罐壁,，對(duì)接焊縫宜打磨光滑,，---內(nèi)表面平整。浮頂儲(chǔ)罐上部為敞口,，為增加壁板剛度,，應(yīng)根據(jù)所在地區(qū)的風(fēng)載大小，罐壁頂部需設(shè)置抗風(fēng)圈梁和加強(qiáng)圈,。
浮頂：浮頂分為單盤式浮頂,、雙盤式浮頂和浮子式浮頂?shù)刃问健?/p>
單盤式浮頂：由若干個(gè)獨(dú)立艙室組成環(huán)形浮船，其環(huán)形內(nèi)側(cè)為單盤頂板,。單盤頂板底部設(shè)有多道環(huán)形鋼圈加固,。其優(yōu)點(diǎn)是造價(jià)低、好維修,。
雙盤式浮頂：由上盤板,、下盤板和船艙邊緣板所組成，由徑向隔板和環(huán)向隔板隔成若干獨(dú)立的環(huán)形艙。其優(yōu)點(diǎn)是浮力大,、排水效果好,。
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