磁控濺射電源

     從輸出波形看，伴隨著磁控濺射技術本身的發(fā)展,，納米噴鍍廠家,，經(jīng)歷了直流,、單極性脈沖、對稱雙極性脈沖中頻磁控濺射電源和雙極性脈沖非對稱中頻磁控濺射電源幾種方式,。目前,，新的磁控濺射電源基本上都采用高頻逆變開關電源技術制造，中頻磁控濺射電源已成為新的磁控濺射設備的電源,。為了準確控制膜層厚度，磁控濺射電源必須穩(wěn)定工作,，并具有較好的恒定特性,。目前，主要采用恒流方式,，也有采用恒功率方式的,，采用恒壓方式。另外,，磁控濺射鍍膜技術具有的一個-優(yōu)點是膜層致密,、光潔度較好。要實現(xiàn)該優(yōu)點,，納米噴鍍加工,，必須嚴格-磁控濺射過程中靶表面的打火次數(shù)和每次打火的能量，納米噴鍍設備,，盡量減少打火瞬間造成的宏觀靶材粒子數(shù)量,，它們會降低膜層的致密性和光潔度，納米噴鍍,，-時會造成掉膜,。