真空鍍膜

主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(ar)離子撞擊靶材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜.濺鍍薄膜的性質(zhì),、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多.新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，陶瓷真空電鍍,，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,，六盤水真空電鍍，提高濺鍍速率.一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用rf交流濺鍍,，真空電鍍加工，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(ar)離子撞擊靶材(target)表面,，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面,，金屬真空電鍍，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜.

電鍍的表面積越大，中心部位與邊緣的光澤差別也越大,，略帶拋物面能---鍍面光澤的均勻性,。