主要用途：
用于制備導(dǎo)電薄膜,、半導(dǎo)體薄膜,、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,，高真空電子束鍍膜機公司,，批量生產(chǎn)型。
系統(tǒng)組成:
系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室,、e型電子槍,、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺,、工作氣路,、抽氣系統(tǒng)、真空測量,、計算機系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成,。
技術(shù)指標(biāo)：
---真空度：≤6.7×10 pa 恢復(fù)真空時間：從1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7pa.l/s,；
真空室：真空室1200x9000 x800mm采用u型箱體前開門,，唐山高真空電子束鍍膜機，后置抽氣系統(tǒng)
e型電子槍：陽極電壓：10kv(2套) 坩堝：水冷式坩堝,，24穴設(shè)計,，每個容量11ml
功率：0-10kw可調(diào) 電阻蒸發(fā)源(可選)
基片尺寸：可放置4″基片一次更換20個樣品
樣品臺：基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離350mm加熱溫度 400°c±1°c
氣路系統(tǒng)：流量控制器1路
石英晶振膜厚控制儀：監(jiān)測膜厚顯---圍：0-99μ9999?
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——電子束產(chǎn)品供應(yīng)商,，高真空電子束鍍膜機,，我們?yōu)槟鷰硪陨闲畔ⅰ?/p>
以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助,。
★ 完全封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計，外觀更漂亮,，使用更安全,；是一臺---美學(xué)和用戶操控體驗的全新升級產(chǎn)品；
★ 前開門真空腔體,，方便取放基片,、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護；
★ 可定制一體化高的精度刻蝕掩膜板,；基片臺公轉(zhuǎn),，轉(zhuǎn)速0～25rpm連續(xù)可調(diào),；平板基底襯底可選擇加熱或水冷；
★ ---的薄膜均勻性和重復(fù)性,，采用進口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚,；
★ 可沉積金屬au,， ag， al,， ti,， pt， mo,， fe,，高真空電子束鍍膜機報價， cr,， ni等,、化合物ito等及有機物材料進口電子槍。
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn),、銷售電子束,，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備采用完全封閉的系統(tǒng)框架,，結(jié)構(gòu)緊湊,，外觀更漂亮，使用更安全,。6-10kw e型電子槍可選國產(chǎn)或進口,，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所,、高校在片狀,、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物ito等氧化物/導(dǎo)電薄膜/光學(xué)薄膜等,。
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