真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢,?1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料:可沉積鋁,、鈦,、---等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,,而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系.2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料:由于真空涂層的附著力,、致密度,、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良,,沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達(dá)到節(jié)約的目的.3.真空鍍膜設(shè)備無環(huán)境污染:由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,,沒有溶液污染,,所以對環(huán)境的危害相當(dāng)小。
真空鍍膜設(shè)備的工作離不開相應(yīng)的監(jiān)測,那么如何監(jiān)測呢,?下面一起來看看吧,。1.目視監(jiān)控使用雙眼監(jiān)控,因為薄膜在成長的過程中,,因為干涉現(xiàn)象會有色彩改變,,我們即是依據(jù)色彩改變來操控膜厚度的,此種辦法有必定的差錯,,所以不是很,,需求依托經(jīng)歷。2.定值監(jiān)控法此辦法使用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長四分之-位,,然后由計算機(jī)計算在波長一時總膜厚之反射率是多少,,此即為中止鍍膜點(diǎn)。3.水晶振動監(jiān)控使用石英晶體振動頻率與其成反比的原理工作的,�,?墒鞘⒈O(jiān)控有一個欠好的地方即是當(dāng)膜厚添加到必定厚度后,振動頻率不全然因為石英自身的特性使厚度與頻率之間有線---,,此刻有-使用新的石英振動片,。4.極值監(jiān)控法當(dāng)膜厚度添加的時候其反射率和穿透率會跟著起改變,當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時候,,就能夠知道鍍膜之光學(xué)厚度nd是監(jiān)控波長入的四分之一的整倍數(shù),。可是極值的辦法差錯對比大,,因為當(dāng)反射率或許透過率在極值鄰近改變很慢,,亦即是膜厚nd添加許多,r/t才有改變,。反映對比的方位在八分之-利益,。
真空鍍膜機(jī)的工作原理在鍍膜領(lǐng)域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素,。因此,,當(dāng)評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能,。對于真空鍍膜的情形,,這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:首先,,不同次生長的樣品,,儀器的狀態(tài)不同,以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度,;其次,,真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得,,非常耗時。增加了生產(chǎn)和檢測的成本,。因此,,提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測,。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,,實現(xiàn)蒸鍍、封裝,、測試等工藝全封閉制作,,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機(jī)大面積電路制備過程中-環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,,保障了,、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要用途:用于制備各種金屬膜,、半導(dǎo)體膜,、介質(zhì)膜、磁控膜,、光學(xué)膜,、超導(dǎo)膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜,。
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