伯東企業(yè)上海有限公司為您提供kri霍爾離子源成功用于天文望遠(yuǎn)鏡片離子輔助鍍膜工藝ibad,。伯東公司為 kaufman & robinson, inc (美---夫曼公司) 大-總代理.
美---夫曼公司中空陰極中和器霍爾離子源 eh 3000hc已成功被應(yīng)用于應(yīng)用于直徑 2.2米天文望遠(yuǎn)鏡鏡片離子輔助鍍膜工藝 (ion beam assisted deposition, ibad). eh 3000hc 離子束具有業(yè)界中---廣角的涵蓋面積及---密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝鍍膜中可以獲得高均勻性及高致密性的膜層.
實(shí)際案例:
設(shè)備: 3米蒸鍍鍍膜機(jī).
基材: 2.2米天文望遠(yuǎn)鏡鏡片.
離子源條件: vb: 120v(離子束陽(yáng)極電壓), ib: 14a(離子束陽(yáng)極電流), o2 gas: 45sccm(氧氣).
圖片:
kri 霍爾離子源 eh 3000
上海伯東代理---進(jìn)口 kri 霍爾離子源 eh 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eh 3000 是目前市場(chǎng)上---效, 提供---離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300v / 20a
操作氣體: ar, xe, kr, o2, n2, 有機(jī)前體
kri 霍爾離子源 eh 3000 特性
水冷 - 加速冷卻
即插即用備用陽(yáng)極
高離子輔助鍍膜 iad 效率
安裝方便
---的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
上海伯東是美---夫曼離子源 kaufman & robinson, inc 中國(guó)總代理. 美國(guó) kri 霍爾離子源已廣泛應(yīng)用于離子輔助鍍膜應(yīng)用(ibad), 高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強(qiáng)度及濃度可獲得高的膜層拋. kri 霍爾源系列可依客戶鍍膜機(jī)尺寸及基材尺寸及工藝條件選擇相關(guān)型號(hào):
kri end hall (霍爾離子源) 型號(hào): eh400, eh1000, eh2000, eh3000.
上海伯東是德國(guó) pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), kri 考夫曼離子源, 美國(guó) intest 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 ns 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知---的---.
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