4,，nr9 1500py光刻膠報價，---

前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機上,，經(jīng)與光刻版對準后,，進行---，接受光照的光刻膠發(fā)生化學變化,，形成潛影,，

光源與光刻膠相匹配，也就是光源波長在光刻膠的敏感波段,；

對準：指光刻板上與襯底的對版標記應準確對準,，這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準。

---時間,，由光源強度,，光刻膠種類，厚度等決定,，

另外,，為降低駐波效應影響，nr9 1500py光刻膠公司,，可在---后需進行烘焙,，稱為光后烘焙peb

二、預烘和底膠涂覆pre-bake&primer vapor

由于光刻膠中含有溶劑,，所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的,。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強光刻膠與表面的黏附性,、通常大約100 °c,。這是與底膠涂覆合并進行的。

底膠涂覆增強光刻膠(pr)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (hmds),、在pr旋轉涂覆前hmds蒸氣涂覆,、pr涂覆前用冷卻板冷卻圓片。