光刻是整個集成電路制造過程中耗時長,、難度大的工藝,，耗時占ic制造50%左右，成本約占ic生產成本的1/3,。光刻膠是光刻過程重要的耗材,，光刻膠的對光刻工藝有著重要影響,。
光刻是將圖形由掩膜版上轉移到硅片上,，為后續(xù)的刻蝕步驟作準備。在光刻過程中,，需在硅片上涂一層光刻膠,，經(jīng)紫外線-后，光刻膠的化學性質發(fā)生變化,，在通過顯-,，被-的光刻膠將被去除，從而實現(xiàn)將電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上,。再經(jīng)過刻蝕過程,，實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。在刻蝕過程中,，光刻膠起防腐蝕的保護作用,。
以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助,。如果您想要了解更多光刻膠的知識,，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。
根據(jù)化學反應機理和顯影原理的不同,，光刻膠可以分為負性膠和正性膠,。對某些溶劑可溶，但經(jīng)-后形成不可溶物質的是負性膠;反之,，對某些溶劑不可溶,，經(jīng)-后變成可溶的為正性膠。
從需求端來看,，光刻膠廠家,，光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和pcb光刻膠。其中,，半導體光刻膠的技術壁壘較高,。
想要了解更多賽米萊德的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話,！
賽米萊德生產,、銷售光刻膠，光刻膠公司,，以下信息由賽米萊德為您提供,。
基于感光樹脂的化學結構，光刻膠可以分為三種類型,。
光聚合型,，采用烯類單體，在光作用下生成自由基,，自由基再進一步引發(fā)單體聚合,，然后生成聚合物，具有形成正像的特點,。
光分解型,，采用含有-醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,，會發(fā)生光分解反應,，由油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z,。
光交聯(lián)型,，采用-月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下,，其分子中的雙鍵被打開,，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，黑龍江光刻膠,，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結構,，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負性光刻膠,。
|
登錄后臺
滇公網(wǎng)安備 53011202000392