1,、鍍層發(fā)暗和色澤不均勻
說(shuō)明有金屬污染。因?yàn)橐话愣际窍儒冦~后鍍鎳,,鍍層發(fā)暗和色澤不均勻,。所以帶入的銅溶液是主要的污染源。重要的要把掛具所沾的銅溶液減少到水平,。為了除去槽中的金屬污染,,采用波紋鋼板作陰極,,0.120.50a/d㎡的電流密度下,電解處理,。前處理---,、底鍍層---,、電流密度太小,、主鹽濃度太低,揭陽(yáng)封孔劑,,導(dǎo)電接觸---都會(huì)影響鍍層色澤,。
2、鍍層
引起鍍層的可能原因:硼酸不足,、金屬鹽的濃度低,、工作溫度太低、電流密度太高,、ph值太高或攪拌不充分,。
鍍鎳光亮劑可分為初級(jí)光亮劑、次級(jí)光亮劑和和輔助光亮劑三種,�,!�
1.初級(jí)光亮劑 初級(jí)光亮劑又稱為類光亮劑或載體光亮劑,這類光亮劑是一些含硫的化合物,,在分子結(jié)構(gòu)上都含有一個(gè)或一個(gè)以上的磺化基團(tuán),。初級(jí)光亮劑能獲得結(jié)晶細(xì)致并有一定光澤的鍍層,能降低鍍層的張應(yīng)力,。這種光亮劑單獨(dú)使用并不能獲得全光亮的鍍層,,只有與第二類光亮劑配合使用時(shí)才能使鍍層達(dá)到全光亮,如用量過(guò)多會(huì)使鍍層呈現(xiàn)壓應(yīng)力,。常用的初級(jí)光亮劑有:---亞磺酸鈉,、對(duì)磺---、---磺酸,、糖精,、---2磺酸、磺酸等,。其中以糖精使用,,它是的應(yīng)力,通常用來(lái)降低或消除鍍層薄霧,。初級(jí)光亮劑的濃度范圍為0.5~2. 5g/l,,其濃度取決于化合物的種類,需要通過(guò)實(shí)驗(yàn)來(lái)確定,。初級(jí)光亮劑在電解過(guò)程中消耗速度不快,,主要消耗來(lái)自于隨工件帶出和活性炭處理,。
2.次級(jí)光亮劑 次級(jí)光亮劑又稱為第二類光亮劑,,封孔劑一公斤多少錢,,這類光亮劑的結(jié)構(gòu)中常含有雙鍵、三鍵等不飽和基團(tuán),,使鍍液具有較好的整平性,。這種光亮劑單獨(dú)使用雖然也能獲得光亮的鍍層,但鍍層脆性較大,、張應(yīng)力較高,、光亮范圍窄,同時(shí)對(duì)鍍液雜質(zhì)敏感性較高,,當(dāng)用量較大時(shí)也容易使鍍層產(chǎn)生,。只有當(dāng)與初級(jí)光亮劑配合使用時(shí),才可以獲得全光亮,、整平性,、延展性能---的鍍層。這類光亮劑主要包括有醛類,、酮類,、炔類、類,、雜環(huán)類五種類型,,封孔劑如何使用,如:甲醛,、水合氯醛,、---、二馬來(lái)酸酯,、1,,4-、1,,4-與的縮合物,、---二磺酸、---酸,、亞醇,、---甲碘化物、對(duì)---------,、和等,。以---、甲醛和1,,封孔劑廠家,,4-應(yīng)用較多,。其中---可用于半光亮鍍鎳的整平劑,它使鍍層的內(nèi)應(yīng)力增加并提升鍍層的光亮度,,曾被較多采用,。但---的陰極還原產(chǎn)物草木樨酸與鍍層結(jié)合使鍍層的韌性降低,硬度增加,,必須經(jīng)常使用活性炭來(lái)處理
鍍液受cu2+污染,,會(huì)使鍍件低電流密度區(qū)光亮度差,過(guò)多的cu2+還會(huì)造成鍍層脆性增大及結(jié)合力---的弊病,。在光亮鍍鎳液中,,銅離子濃度cu2+應(yīng)小于0.01g/l。去除鍍液中的cu2+有以下幾種方法,。1.電解法即用低電流密度使鍍液中的cu2+沉積在處理陰極板上的方法。用于處理的陰極板有波紋板,、鋸齒板和平面板三種型式,。波紋板在施加一定電流電解時(shí),陰極板上電流密度范圍較廣,,波峰處電流密度較大,,波谷處電流密度較小,所以能使cu2+和其他金屬雜質(zhì)同時(shí)沉積,,達(dá)到去除多種雜質(zhì)的目的,。鋸齒形陰極板受效應(yīng)的影響,電解過(guò)程中ni2+和cu2+同時(shí)沉積,,造成鍍液中鎳鹽損失增加,。采用平板陰極可以使用不同的電流密度,達(dá)到有選擇地去除金屬雜質(zhì)的目的,。據(jù)經(jīng)驗(yàn),,電流密度為0.5a/dm2時(shí)有利于cu2+在陰極析出。
不論采用哪種型式的陰極進(jìn)行電解處理都應(yīng)注意幾個(gè)問(wèn)題:a.長(zhǎng)時(shí)間電解處理時(shí),,應(yīng)定期清洗電解板,,防止電解板上疏松鍍層脫落重新污染鍍液;b.采用陰極移動(dòng)或空氣攪拌可以提高處理效果,;c.電解處理中使用的陽(yáng)極板必須是的鎳陽(yáng)極板,,否則將影響處理效果,造成不---的浪費(fèi),。2.化學(xué)沉淀劑法常見(jiàn)的有qt除銅劑,,該沉淀劑主要成分是亞鐵,在鍍液中與cu2+生成亞鐵沉淀,,然后過(guò)濾出沉淀,,達(dá)到去除銅雜質(zhì)的目的,。此方法的缺點(diǎn)是需要進(jìn)行精密過(guò)濾,比較費(fèi)時(shí),。3.螯合劑法螯合劑一般為芳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)的有機(jī)物,,在鍍液中與cu2+形成螯合物,由于在電解中,,螯合物和ni2+共沉積,,可以使鍍液中銅離子濃度cu2+不至于過(guò)高。這種方法簡(jiǎn)單易行,,是目前處理鍍鎳液中雜質(zhì)較好和有效的方法,。在應(yīng)用時(shí)必須選用的螯合劑,---是要---不能對(duì)鍍層產(chǎn)生---的影響,。
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