鍍膜設(shè)備該選擇哪種主泵配置真空系統(tǒng)在鍍膜設(shè)備行業(yè)中可謂是非常重要,,是其不缺缺少的設(shè)備之一,。目前常用的真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)形式一般是由主泵及前級(jí)泵串聯(lián),加上閥門管道和真空測(cè)量?jī)x表組成,。而所選的主泵基本---為兩種形式,,分別為有油真空和無油真空系統(tǒng),。那么什么是有油真空系統(tǒng)和無油真空系統(tǒng)呢?下面小編來給大家介紹一下:有油真空系統(tǒng)基本是以油擴(kuò)散泵為主泵,,前級(jí)泵采用機(jī)械泵或者羅茨泵,。我們知道,油擴(kuò)散泵的壓力方位比較大,,同時(shí)抽氣速率非常的高,,能夠達(dá)到每秒十幾萬(wàn)升。其工作能力在業(yè)內(nèi)是的,,這也得益于其具有---的性能,。從優(yōu)點(diǎn)上來講,有油真空系統(tǒng)工作---,,沒有振動(dòng),,沒有噪音,---,,維護(hù)建檔透支費(fèi)用低,,是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點(diǎn)也非常的明顯,,就是會(huì)形成污染源,大規(guī)格泵在這方面的---,。無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的,,其特點(diǎn)主要集中在能夠連續(xù)大量抽氣,可以獲得清潔無油的真空,。并且該系統(tǒng)啟動(dòng)時(shí)間快,,停泵時(shí)間短。但是該系統(tǒng)抽重氣體比抽輕氣體快,,對(duì)水蒸氣類型的的抽速比較慢,,當(dāng)氣體大量經(jīng)過泵的時(shí)候,抽速就會(huì)下降的很快,。這兩種真空鍍膜設(shè)備各有各的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn),,使用者應(yīng)該考慮自己的需求來進(jìn)行選購(gòu)。
真空鍍膜機(jī)在鍍鋁膜方面的使用鍍鋁膜是通過真空鍍鋁工藝將高純度的鋁絲在高溫1100~1200℃下蒸發(fā)成氣態(tài),,之后塑料薄膜經(jīng)過真空蒸發(fā)室時(shí),,氣態(tài)的鋁分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金屬色彩的薄膜,鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復(fù)合軟包裝材料,,其中的加工方法---真空鍍鋁法,,就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁融化蒸發(fā),使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上,,從而使塑料薄膜表---有金屬光澤,。由于它既具有塑料薄膜的特性,又具有金屬的特性,是一種廉---觀,、---良,、實(shí)用性強(qiáng)的包裝材料。與傳統(tǒng)鍍鋁工藝相比較,,真空鍍鋁膜有優(yōu)點(diǎn)就太多了,,如:1---減少了用鋁量,節(jié)省了能源和材料,,降低了成本,,復(fù)合用鋁箔厚度多為7~gpm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,,且生產(chǎn)速度可---450m/min。2具有優(yōu)良的耐折性和---的韌性,,很少出現(xiàn)和裂口,,無揉曲龜裂現(xiàn)象,因此對(duì)氣體,、水蒸汽,、氣味、光線等的阻隔性提高,。3具有的金屬光澤,,光反射率可達(dá)97%;且可以通過涂料處理形成彩色膜,,其裝潢效果是鋁箔所不及的,。4可采用屏蔽式進(jìn)行部分鍍鋁,以獲得任意圖案或透明窗口,,能看到內(nèi)裝物,。5鍍鋁層導(dǎo)電性能好,能消除靜電效應(yīng),;其封口性能好,,尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時(shí),不會(huì)污染封口部分,,---了包裝的密封性能,。6對(duì)印刷、復(fù)合等后加工具有---的適應(yīng)性,。由于以上特點(diǎn),,使鍍鋁薄膜成為一種---良、經(jīng)濟(jì)美觀的新型復(fù)合薄膜,,在許多方面已取代了鋁箔復(fù)合材料,。主要用于風(fēng)味食品,、農(nóng)產(chǎn)品的真空包裝,以及---,、化妝品,、的包裝。另外,,鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標(biāo)標(biāo)簽材料等,。
磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級(jí)濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由洗艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所---,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電,、靶材等現(xiàn)象.而射頻濺射是---頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電,、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力---.
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