劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性,。光刻膠在---之后,，被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,，正性光刻膠曝過光的區(qū)域溶解得要快得多,。理想情況下，未---的區(qū)域保持不變,。負(fù)性光刻膠正好相反,，在顯影劑中未---的區(qū)域?qū)⑷芙猓?--的區(qū)域被保留,。正性膠的分辨力往往是較好的,，因此在ic制造中的應(yīng)用更為普及，但mems系統(tǒng)中,，由于加工要求相對較低,，光刻膠需求量大，nr9 3000p光刻膠,，負(fù)性膠仍有應(yīng)用市場,。
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樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,，是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑,。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的,。
感光劑:感光劑是光刻膠的部分,，他對光形式的輻射能，---在紫外區(qū)會發(fā)生反應(yīng),。---時間,、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)，度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的,。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,，感光劑和添加劑都是固體物質(zhì)，為了方便均勻的涂覆,，nr9 3000p光刻膠,，要將他們加入溶劑進(jìn)行溶解,，形成液態(tài)物質(zhì)，nr9 3000p光刻膠公司,，并且使之具有---的流動性,，可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,，如---光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑,。
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光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,，---是近年來-和---規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大---進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用,。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域,。
1、光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,，品種較多,。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,，可分負(fù)性膠和正性膠兩類,。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。反之,，對某些溶劑是不可溶的,，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。
2,、普通的光刻膠在成像過程中,，由于存在一定的衍射、反射和散射,，降低了光刻膠圖形的對比度,，從而降低了圖形的分辨率。隨著---加工特征尺寸的縮小,，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大,。為了提高---系統(tǒng)分辨率的性能，人們正在研究在---光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù),。該技術(shù)的引入,，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而---光刻膠的分辨率性能,，nr9 3000p光刻膠報(bào)價(jià),，但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。
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