成都超邁光電科技有限公司為您提供箱式磁控濺射鍍膜機(jī)。該設(shè)備用于納米級(jí)單層或多層膜,、類金剛石薄膜,、金屬膜,、導(dǎo)電膜,、半導(dǎo)體膜和非導(dǎo)電膜等功能薄膜的制備,，可實(shí)現(xiàn)共濺射,，直流、射頻兼容,，---適于科研院所和企業(yè)進(jìn)行功能薄膜研發(fā),、教學(xué)和新產(chǎn)品開發(fā)，同時(shí)可在微米級(jí)粉末或顆粒上沉積薄膜進(jìn)而達(dá)到表面改性的功能,。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇,。
主體結(jié)構(gòu)。全封閉框架結(jié)構(gòu),，真空室φ500為前開門方式,，機(jī)柜和主機(jī)為一體式機(jī)構(gòu)。
真空度,�,！�5×10－5pa空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)�,，漏率：�?yōu)于1x10-7pa.l/s,壓升率優(yōu)于---標(biāo)準(zhǔn),。
真空配置,。高速直聯(lián)旋片泵一臺(tái),，抽速大于8l/s，配置尾氣處理裝置,。分子泵一臺(tái),，抽速1200l/s。
真空測(cè)量,。兩路電阻規(guī),，一路電離規(guī)；電阻規(guī)和電離規(guī)均采用防爆型金屬封結(jié)真空規(guī),。
工件架系統(tǒng),。7工位2英寸行星工件盤，6個(gè)在圓周上,，1個(gè)放置在工件盤中心,，可用于共濺射，中心工位設(shè)置加熱臺(tái),，采用pid控制可烘烤加熱到700℃,。工件盤由減速電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
磁控濺射系統(tǒng),。配置3個(gè)φ50mm可折疊磁控靶可擴(kuò)展至4靶機(jī)構(gòu),，安裝真空室底部，向上濺射成膜,；每只靶和基片件距離手動(dòng)可調(diào),；靶內(nèi)均通入冷卻水冷卻,。
電源 。2套直流電源,； 1套全固態(tài)射頻電源,；；一套200w直流偏壓電源,；
充氣系統(tǒng),。配置三路供氣，二路分別配置流量控制器,，線性±0.5 % f.s,，重復(fù)精度±0.2% f.s，0-5v輸出,，在觸摸屏上設(shè)置流量,。
電氣控制系統(tǒng)。采用功能化模塊設(shè)計(jì),，匹配西門子人機(jī)界面+西門子控制單元,，濺射時(shí)間可以設(shè)定并---，能夠根據(jù)工藝需求自動(dòng)濺射,。
可選配置：在線膜厚監(jiān)控系統(tǒng),；垂直濺射與共濺射兼容；基片烘烤溫度至800攝氏度,，滿足部分材料的真空原位退火或氣氛保護(hù)退火的需要,；蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射兼容；干式無油潔凈真空系統(tǒng),；在線離子轟擊清洗,；自動(dòng)擋板和手動(dòng)擋板；直流電源射頻電源的組合形式,。
---說明：根據(jù)用戶不同的工況和工藝要求,，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā)，共享---,。
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